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    新聞詳情

    第貳屆光電子集成芯片立強論壇暨硅光技術與應用研討會宏展合輯

    日期:2023-02-01 17:36
    瀏覽次數:234
    摘要:“第貳屆光電子集成芯片立強論壇暨硅光技術與應用研討會”于2021年5月14-18日在重慶麗笙世嘉酒店成功舉辦。會議總規模逾900人,其中高校參會人數約占50%、研究院所約占30%、企業約占20%,實屬本領域內的一次超高水準的行業盛會。
    “第貳屆光電子集成芯片立強論壇暨硅光技術與應用研討會”于2021年5月14-18日在重慶麗笙世嘉酒店成功舉辦。會議總規模逾900人,其中高校參會人數約占50%、研究院所約占30%、企業約占20%,實屬本領域內的一次超高水準的行業盛會。

        本次會議由中國光學工程學會主辦,由聯合微電子中心有限責任公司、中國光學工程學會光電子集成芯片立強論壇專家委員會、中國電子科技集團公司第四十四研究所共同承辦,由國家信息光電子**中心、山東大學激光與紅外系統集成技術教育部重點實驗室、重慶大學光電技術及系統教育部重點實驗室、中國電子科技集團公司第貳十三研究所、南京理工大學共同聯辦。會議期間開展了豐富多彩的交流活動,涵蓋專題研討會、光電子流片和軟件培訓、光電子平臺展示、圓桌洽談會、人才招聘和優良論文評選等,從不同角度滿足與會代表的實際需求。


    宏展工作人員合影


    宏展科技與訊石光通訊網 凌科 合影



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